euv-lithography

美国官员声称ASML的EUV光刻机可能已流入中国，这将违反出口管制；ASML否认这一说法，表示中国没有此类机器，且所有设备均受到追踪。

imec展示了世界上首个采用高NA EUV光刻制造的量子点量子比特器件，实现了量子比特控制栅极之间的纳米级间隙，为硅基量子计算机的工业规模化铺平了道路。