lithography

前Intel CEO Pat Gelsinger加入Playground Capital担任普通合伙人，投资于使用光刻技术的半导体初创公司以复兴摩尔定律，并讨论他转向风险投资的原因以及深科技的重要性。

ASML正在出货其新款价值4亿美元的高数值孔径极紫外光刻机，能够刻蚀小至8纳米的特征，这对推动摩尔定律和满足AI行业对更密集、更强大芯片的需求至关重要。

LithoGRPO引入了一个新颖的框架，将流匹配与基于GRPO的强化学习相结合，用于快速且高质量的逆光刻掩模优化，在保持高效生成的同时实现了最先进的性能。