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英特尔已开始出货采用ASML High-NA EUV扫描仪制造部件的笔记本处理器,这标志着该下一代光刻工具首次在英特尔18A制程中用于大批量生产。
荷兰贸易部长Sjoerd Sjoerdsma访问华盛顿,游说反对MATCH法案,该法案将禁止向中国销售旧一代芯片制造设备,威胁到ASML的业务。
本期通讯重点介绍了ASML价值4亿美元的芯片制造设备,该设备对AI时代的芯片至关重要,以及Anthropic因其Mythos AI模型出口管制问题与美国政府的争执。
ASML正在出货其新款价值4亿美元的高数值孔径极紫外光刻机,能够刻蚀小至8纳米的特征,这对推动摩尔定律和满足AI行业对更密集、更强大芯片的需求至关重要。
美国官员声称ASML的EUV光刻机可能已流入中国,这将违反出口管制;ASML否认这一说法,表示中国没有此类机器,且所有设备均受到追踪。