顶级芯片制造商采用ASML 4亿美元机器,同意关键芯片制造变革
摘要
像英特尔、三星和台积电这样的顶级芯片制造商正在采用ASML的先进EUV机器,并标准化12英寸光掩模,以提高芯片生产效率,这受人工智能需求和地缘政治竞争驱动。
<p>领先的芯片制造商<a href="https://www.asml.com/en/news/press-releases/2026/samsung-electronics-and-asml-expand-collaboration-on-next-generation-semiconductor-manufacturing">Samsung Electronics</a>和<a href="https://www.asml.com/en/news/press-releases/2026/tsmc-and-asml-announce-industry-transition-to-large-format-photomasks-for-high-na-euv">Taiwan Semiconductor Manufacturing Co.</a>宣布计划在未来几年内采用ASML最新的芯片制造机器——他们还与英特尔同意进行一项关键技术变革,这可以将新机器上的芯片生产提高40%。</p>
<p>这标志着半导体行业更广泛地采用高数值孔径EUV光刻技术,该技术每台机器成本高达4亿美元,仅由荷兰科技公司ASML提供,<a href="https://www.bloomberg.com/news/articles/2026-09-08/asml-tsmc-samsung-intel-back-12-inch-masks-for-ai-chips">Bloomberg reports</a>。该技术将允许芯片设计者在为AI数据中心和智能手机、平板电脑、笔记本电脑等消费电子产品生产的潜在更强大、更高效的下一代芯片中实现更小的特征。</p>
<p>ASML的EUV(极紫外)光刻机使芯片制造商能够使用强大的激光在硅片上逐层印制图案,并逐渐形成使硅芯片工作的计算机电路。但改进这种EUV技术需要找到更强大的光源,其波长更短,能够在硅片上创建更小的特征。</p><p><a href="https://arstechnica.com/gadgets/2026/09/top-chipmakers-embrace-asmls-400m-machines-agree-to-crucial-chipmaking-change/">阅读完整文章</a></p>
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# 顶级芯片制造商采用ASML价值4亿美元的设备,同意关键芯片制造工艺变革
来源:https://arstechnica.com/gadgets/2026/09/top-chipmakers-embrace-asmls-400m-machines-agree-to-crucial-chipmaking-change/
英特尔已率先在芯片制造中引入高数值孔径极紫外光刻设备。这家美国企业自2026年7月起,已运用该项技术(https://www.asml.com/en/news/press-releases/2026/high-na-euv-reaches-new-readiness-milestone)量产用于移动计算设备的Panther Lake处理器。
## 行业持续演进,中国加速追赶
三星和台积电目前正与英特尔、ASML合作,推动将光掩模——即印刻复杂电路图案的硅片模板——的行业标准从6英寸提升至12英寸。ASML首席技术官Marco Pieters向彭博社透露,这项变革有望将高数值孔径极紫外光刻机的芯片制造效率提升40%。
韩国存储芯片制造商SK海力士也考虑加入监督向更大尺寸12英寸光掩模转换的行业联盟,其发言人向彭博社表示。与三星类似,SK海力士同样计划在2028年启动基于高数值孔径极紫外技术的存储芯片生产。
只要AI泡沫(https://arstechnica.com/gadgets/2026/06/how-to-burst-the-ai-bubble-strike-at-its-roots/)持续膨胀,提升芯片产能就始终是企业的核心要务。科技公司竞相建设新型AI数据中心(https://arstechnica.com/features/2026/09/the-ai-data-center-boom-is-causing-new-accountability-problems/)的行为,也加剧了全球存储芯片短缺(http://arstechnica.com/gadgets/2026/01/ram-shortage-chaos-expands-to-gpus-high-capacity-ssds-and-even-hard-drives/),导致智能手机(https://arstechnica.com/gadgets/2026/07/apple-and-samsung-benefit-as-memory-shortage-pushes-smartphone-shipments-to-historic-lows/)、笔记本电脑和游戏设备(https://arstechnica.com/gadgets/2026/02/valves-steam-deck-intermittently-out-of-stock-as-ram-shortage-drags-on/)价格上涨。
与此同时,ASML设备在先进芯片制造中的关键作用,也成为中美持续技术竞争(https://arstechnica.com/tag/china/)的焦点议题。ASML仍在向中芯国际(SMIC)等中国企业供应旧款深紫外光刻机,但在荷兰政府管制和美国政治压力下,其大多数芯片制造设备已被禁止出口至中国(https://www.theguardian.com/technology/2024/jan/02/asml-halts-hi-tech-chip-making-exports-to-china-reportedly-after-us-request)。
尽管美国政府指控中国已设法获得一台ASML的极紫外光刻机(https://www.bloomberg.com/news/articles/2026-06-19/us-tells-asml-it-s-concerned-china-may-have-top-chip-tool)尚未得到证实,但中国企业在自主研发该技术及支撑此类设备生产的供应链方面,仍面临巨大挑战(https://warontherocks.com/cogs-of-war/asmls-extreme-ultraviolet-lithography-and-the-limits-of-reverse-engineering-in-china/)。ASML独家光学镜片与系统供应商——德国蔡司集团高管近期预测,中国需要15年时间(https://www.bloomberg.com/news/articles/2026-09-02/asml-supplier-says-china-15-years-behind-in-top-chipmaking-tools)才能开发出极紫外光刻机。
*本文于2026年9月8日更新,以修正极紫外技术相较于深紫外光刻等旧技术的描述。*
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