以材料科学创新推动下一代AI发展

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摘要

先进材料通过解决半导体制造和数据中心基础设施中的性能挑战,对于实现下一代AI至关重要。文章强调了聚合物、流体和热管理方面的材料创新如何支撑日益强大的AI系统的物理需求。

<p>关于AI的讨论通常集中在算法、计算能力,或是对新半导体制造工厂和超大规模数据中心的巨额投资上。但在这些进步的背后,还有另一层创新使其成为可能:先进材料。</p> <figure class="wp-block-image size-large"><img decoding="async" width="1200" height="675" src="https://wp.technologyreview.com/wp-content/uploads/2026/07/Syensqo-shutterstock_2491787317.jpg?w=1200" alt="" class="wp-image-1140474" srcset="https://wp.technologyreview.com/wp-content/uploads/2026/07/Syensqo-shutterstock_2491787317.jpg 1200w, https://wp.technologyreview.com/wp-content/uploads/2026/07/Syensqo-shutterstock_2491787317.jpg?resize=300,169 300w, https://wp.technologyreview.com/wp-content/uploads/2026/07/Syensqo-shutterstock_2491787317.jpg?resize=768,432 768w" sizes="(max-width: 1200px) 100vw, 1200px" /></figure> <p>每一代新AI技术都需要更强的处理能力、更大的内存、更高的能效和更高的可靠性。每一次计算性能的提升,都会增加对制造和运行AI的系统的物理需求。</p> <p>实现这些进步不仅依赖于芯片设计和系统架构的进步,还依赖于使它们能够在极端条件下执行的材料进步。</p> <p>随着AI不断挑战半导体和数据中心基础设施的物理极限,先进材料不再仅仅是支持这个领域的创新;它们正在定义可能的极限。</p> <h3 class="wp-block-heading"><strong>性能优先</strong></h3> <p>先进材料的存在是为了解决性能挑战。随着AI不断提高标准,这些挑战变得越来越苛刻。</p> <p>如今,制造半导体芯片需要数千个严格控制的工艺步骤,几乎没有任何出错的空间。温度或化学不稳定的微小变化会导致缺陷,从而降低良率并推高制造成本。每一代新半导体芯片的生产中,制造商都在寻求能够提供更高纯度、更高耐化学性和等离子体抗性,以及在日益严苛的操作条件下具有更好稳定性的先进材料。</p> <p>这些都是被推向新极端的常见工程挑战。而正是这里,材料创新通过聚合物、弹性体、特种流体和其他先进材料的持续进步,使得每一代新技术的实现成为可能。</p> <p>对于材料公司来说,其重点不在于彻底改造半导体制造,而在于确保支持该行业的材料能够与之共同发展。同样原理也适用于半导体制造车间之外。随着AI工作负载变得更加苛刻,为其提供动力的物理基础设施正在迅速发展。</p> <p>计算密度的不断提高正在改变数据中心的设计,推动了对更复杂的热管理、更高电压的电源架构、更大的数据存储以及更快、更可靠的数据传输的需求。从冷却和电源管理到连接器、电容器和硬盘驱动器等关键电子元件,系统的每个部分都承受着更大的压力。</p> <p>在Syensqo,我们正在利用在电子和电气组件方面的专业知识,以及其他市场的见解,来满足这些新兴需求。</p> <p>例如,随着数据中心转向更高电压架构和更大功率密度,我们面临的许多材料挑战与电动汽车非常相似。例如,来自半导体和汽车冷却系统的流体循环技术,可以应用于AI服务器的直接液体冷却设计。通过跨市场转移知识,我们可以加速新的电力和热管理解决方案,同时支持下一代AI基础设施所需的可靠性。</p> <p>无论是半导体制造还是超大规模服务器农场,材料科学公司面临的挑战都是一样的:在不牺牲可靠性的前提下实现更高的性能。</p> <h3 class="wp-block-heading"><strong>性能的新定义</strong></h3> <p>虽然性能仍然是首要任务,但性能的定义方式正在改变。</p> <p>除了满足下一代半导体和数据中心日益严苛的技术要求外,现在人们还期望这些材料的开发和制造更加负责任。</p> <p>例如,全氟弹性体用于密封半导体制造设备。这些材料在极端温度、强等离子体和高度活性化学物质下工作。</p> <p>为了使工艺更加可持续,在Syensqo,我们的下一代全氟弹性体采用无氟表面活性剂制造工艺。我们的目标是制造性能更好的材料,以更好的方式生产,确保制造商不再需要在更高性能和更负责任的生产方式之间做出选择。</p> <p>这种方法反映了整个行业的一个更广泛的现实。</p> <p>新材料的采用并非仅仅因为其新。认证可能需要数年时间,只有当一种材料能解决真正的工程挑战或实现新技术时,制造商才会做出改变。</p> <p>性能仍然是入门条件。今天的区别在于性能的定义已经扩展。成功越来越依赖于从一开始就通过更负责任的制造来实现技术卓越。</p> <h3 class="wp-block-heading"><strong>加快发现速度</strong></h3> <p>随着性能标准的提高,我们的创新方式也必须随之发展。</p> <p>开发先进材料传统上涉及假设、合成、测试和迭代的漫长过程。虽然这个过程保持不变,但新的数字工具正在帮助研究人员更快地完成这些循环。通过帮助研究人员更早地识别最有希望的候选材料,AI可以减少所需的物理实验数量,并加速材料发现的最早阶段。</p> <p>AI并没有取代科学专业知识。它正在帮助科学家更有效地运用专业知识,让他们花更少的时间寻找答案,而花更多的时间解决行业中最棘手的挑战。</p> <p>在Syensqo,我们正在通过使用包括Microsoft Discovery平台在内的多种AI工具来实践这种方法,这些工具帮助研究人员识别和评估用于半导体制造和数据中心的下一代传热流体的有前景的分子候选物。</p> <p>AI帮助我们的研究团队根据所需达到的特性,快速识别和评估有前景的分子候选物。这使我们能够将实验室工作集中在最有潜力取得成果的地方,加速发现过程,缩短将前景材料转化为客户能够验证和部署的解决方案所需的时间。</p> <p>从实验室发现到合格材料的旅程始终需要科学专业知识、严格的测试以及与客户的密切合作。但通过加速发现的最早阶段,AI可以帮助材料创新跟上半导体、电子和数据中心等行业不断发展的需求。</p> <h3 class="wp-block-heading"><strong>进步是靠努力得来的</strong></h3> <p>人工智能的未来将依赖于更好的算法、更强大的芯片和更大的计算基础设施。但维持这种进步还需要在材料方面的进步,这些材料使得那些技术</p>
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# 以材料科学创新推动下一代AI发展 来源:https://www.technologyreview.com/2026/07/21/1140602/advancing-next-gen-ai-with-materials-science-innovation 关于人工智能的讨论往往聚焦于算法、计算能力,或是对新半导体制造厂和超大规模数据中心的大规模投资。但在这些进步的背后,还有另一层创新使之成为可能:先进材料。 每一代新AI技术都要求更强的处理能力、更大的内存、更高的能效和更高的可靠性。每一次计算性能的提升,都会对制造和运行AI的系统提出更高的物理要求。 要实现这些性能增益,不仅需要芯片设计和系统架构的进步,更需要依赖那些能让它们在极端条件下稳定运行的材料创新。 随着AI不断挑战半导体和数据中心基础设施的物理极限,先进材料已不仅仅是该领域的支撑性创新,它们正在定义技术可能性的边界。 ### **性能优先** 先进材料的存在是为了解决性能挑战。随着AI门槛不断提高,这些挑战也变得更加严峻。 如今制造一颗半导体芯片需要数千个严格控制的工艺步骤,几乎不容许任何差错。温度微小波动或化学不稳定都可能导致缺陷,从而降低良率并推高制造成本。每一代新半导体芯片,制造商都在寻找能够提供更高纯度、更强耐化学性和等离子体抗性,以及在日益苛刻的操作条件下保持更好稳定性的先进材料。 这些都是熟悉的工程挑战,但被推向了新的极限。正是在这里,材料创新通过聚合物、弹性体、特种流体及其他先进材料的持续进步,使每一代新技术的诞生成为可能。 对于材料公司而言,关键不在于重新发明半导体制造,而在于确保支撑该行业的材料能够持续与之同步进化。这一原则同样适用于半导体制造车间之外。随着AI工作负载日益苛刻,为其提供动力的物理基础设施也在快速演进。 计算密度的提升正在改变数据中心的设计,驱动对更先进的热管理、更高电压的电源架构、更高的数据存储容量以及更快、更可靠的数据传输的需求。系统中的每一个部件都承受着更大的压力,从冷却和电源管理到关键电子元件(如连接器、电容器和硬盘驱动器)。 在Syensqo,我们正在依托在电子电气元件领域的专长,并结合来自其他市场的洞察,来满足这些新兴需求。 例如,随着数据中心转向更高电压架构和更高功率密度,我们面临的许多材料挑战与电动汽车领域的情况极为相似。例如,来自半导体和汽车冷却系统的流体循环技术,可以适配应用于AI服务器的直接液冷设计。通过跨市场转移知识,我们可以加速推出新的电源和热管理解决方案,同时确保下一代AI基础设施所需的可靠性。 无论是半导体制造还是超大规模服务器集群,材料科学公司面临的挑战都是一样的:在不牺牲可靠性的前提下实现更高的性能。 ### **性能定义的新内涵** 虽然性能仍然是首要考量,但性能的定义正在发生变化。 除了满足下一代半导体和数据中心日益严苛的技术要求外,现在人们还期望这些材料能够以更负责任的方式开发和制造。 例如,全氟弹性体用于密封半导体制造设备。这些材料要在极端温度、高活性等离子体和强反应性化学环境中工作。 为了使工艺更加可持续,在Syensqo,我们的下一代全氟弹性体采用不含氟表面活性剂的制造工艺。我们的目标是生产出性能更优的材料,同时采用更优的生产方式,确保制造商不再需要在更高性能与更负责任的材料生产方式之间做出取舍。 这一做法反映了整个行业更广泛的现实。 新材料不会因为新而直接被采用。认证过程可能长达数年,制造商只有在材料能够解决真正的工程难题或赋能新技术时才会做出改变。 性能仍然是准入门槛。今天的不同之处在于,性能的定义已经扩展。成功越来越取决于从一开始就通过更负责任的制造来实现技术卓越。 ### **加速发现步伐** 随着性能门槛的提高,我们创新的方式也必须随之进化。 传统上,先进材料的开发涉及一个漫长的假设、合成、测试和迭代过程。虽然这个过程本身没有改变,但新的数字工具正在帮助研究人员更快地完成这些循环。通过帮助研究人员更早地识别最有潜力的候选材料,人工智能可以减少所需的物理实验数量,并加速材料发现的最初阶段。 AI并非取代科学专长,而是帮助科学家更有效地应用这些专长,让他们花更少的时间寻找答案,而将更多时间用于解决行业最棘手的挑战。 在Syensqo,我们通过使用多种AI工具(包括Microsoft Discovery平台)将这一方法付诸实践,这些工具帮助研究人员识别和评估用于下一代传热流体(用于半导体制造和数据中心)的有前途的分子候选材料。 AI帮助我们的研究人员根据所需的关键性能,快速识别和评估有前途的分子候选材料。这使我们能够将实验室工作集中在最有潜力产生成果的地方,加快发现速度,并缩短将有前途的材料转化为客户可以认证和部署的解决方案所需的时间。 从实验室发现到认证材料的过程始终需要科学专长、严格测试以及与客户的紧密合作。但通过加速发现的最初阶段,AI可以帮助材料创新跟上半导体、电子和数据中心等行业的不断变化的需求。 ### **进步源于实干** 人工智能的未来将依赖于更优的算法、更强大的芯片以及更庞大的计算基础设施。但要维持这种进步,还需要在使这些技术成为可能的材料方面取得进展。 无论是在半导体制造还是AI基础设施领域,进步都是实干出来的。每一代新技术都会提高门槛,每一种新材料都必须证明其能够提供所需的性能、可靠性和效率,才能赢得一席之地。 对于材料企业来说,这既是挑战,也是机遇。 *本文内容由Syensqo制作。未经MIT Technology Review编辑团队撰写。*

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